Halbleiter: Neues Verfahren überwindet Grenzen der Lithographie WinFuture News 26. Januar 2026 um 15:54 Ein chinesisch-amerikanisches Forschungsteam hat ein neuartiges Verfahren zur Halbleiterherstellung vorgestellt, das die Entwicklung leistungsfähiger optoelektronischer Bauteile grundlegend verändern könnte. (Weiter lesen)